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CR-2000硬鉻電鍍工藝 電鍍效率大大提高投入成本有效降低
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EP-2000電解退鍍鉻工藝
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EP-2000電解退鍍鉻工藝一、工藝介紹對于電鍍生產中產生的不合格鍍層,需要采用先進的退鍍技術,在退除鍍層的…
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CR-2000硬鉻電鍍工藝
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CR-2000硬鉻催化劑工藝一、工藝特點1.陰極電流效率高,可達23-25%2.沉積速度快,是一般普通電鍍鉻的2-3倍3.無…
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CAS-600銅錫合金電鍍工藝
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一、產品特性 1、鍍層平滑細致,硬度300-400VICKERS2、光亮性及填平性好3、可作為打底鍍層,尤其適合于液壓支…
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CR-2000 SBN半光亮鎳電鍍工藝
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一、適用范圍和特點  適用于雙層鎳體系中的半光亮鎳電鍍工藝。使用該工藝所得的半亮鎳和光…