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CR-2000 SBN半光亮鎳電鍍工藝

返回列表 來源:管理員 瀏覽: 發布日期:2016/6/14 9:39:03【

一、適用范圍和特點

  適用于雙層鎳體系中的半光亮鎳電鍍工藝。使用該工藝所得的半亮鎳和光亮鎳之間能產生好的電位差,從而達到抗腐蝕性能好的鍍鎳體系。該工藝還具有操作范圍寬,分解產物少,處理周期長等特點。

二、工藝配方

組分配方

硫酸鎳                      300-350克/升

氯化鎳                      40-50克/升

硼酸                       40-45克/升

SBN-1                       4毫升/升

SBN-2                       2毫升/升

DB低泡潤濕劑                    1-5毫升/升

陰極電流密度                    2-4安培/平方分米

PH                         3.5-4.5

溫度                        50-60℃

攪拌                        空氣攪拌

過濾                        連續過濾

三、消耗量

SBN-1                  150-200毫升/千安培小時

50-80毫升/千安培小時

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